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- 粉砕
- JCA-300 ジョークラッシャ
【売約済】
主な用途
セラミックス、溶融スラグ、電子部品材料、ガラス、歯科材料
研磨材、顔料、鉱物等
主仕様
| 年 式 | 2010年 |
|---|---|
| 歯板 | アルミナ |
| 回転数（r/min） | 300 |
| 概略寸法 L × W × H（mm） |
1700 × 910 × 1050 （架台含まず） |
- 粉砕
- MRCA-1 ロールクラッシャ
【売約済】
主な用途
セラミックス、電子部品材料、ガラス、歯科材料、研磨材
顔料、鉱物等
主仕様
| 年 式 | 2010年 |
|---|---|
| ロール寸法（mm） | φ235 × 300 |
| ロール材質 | アルミナ |
| ロール形状 | スムースロール |
| ロール回転数（r/min） | 180 |
| 概略寸法 L × W × H（mm） |
1780 × 1350 × 1500 （架台含まず） |
- 分級
- 振動篩機（KOWA振動篩機 KF-1000-1D型）
【売約済】
主な用途
整粒（粒度分布の調整、閉回路粉砕）
凝集・粗粒子の除去
主仕様
お問合せ下さい。
- 分級
- 振動篩機（KOWA振動篩機 KFS-1000-1D型）
【売約済】
主な用途
整粒（粒度分布の調整、閉回路粉砕）
凝集・粗粒子の除去
主仕様
お問合せ下さい。
- 粉砕
- TM1500×3000 チューブミル
主な用途
セラミックス、電子部品材料、ガラス等
主仕様
| 年 式 | 2010年 |
|---|---|
| ライニング | アルミナ |
| 内容積（ℓ） | 5200 |
| 回転数（r/min） | 24.5 |
| 概略寸法 L × W × H（mm） |
7100 × 3200 × 3350 |
- 粉砕
- スライドクラッシャ
【売約済】
主な用途
電池材料、セラミックスの仮焼品等
主仕様
| 年 式 | 2011年 |
|---|---|
| 投入可能サイズ（mm） | 300 × 320以下 |
| サイクル（sec/cycle） | 25 |
| 概略寸法 L × W × H（mm） |
1480 × 600 × 1050 |
- 粉砕
- MRCA-1コンタミ抑制ロールクラッシャ
【売約済】
主な用途
電池材料、セラミックス、溶融スラグ
電子部品材料、ガラス、歯科材料、研磨材、顔料、鉱物等
主仕様
| 年 式 | 2017年 |
|---|---|
| ロール寸法（mm） | φ235 × 300 |
| ロール材質 | アルミナ |
| ロール形状 | 溝付ロール |
| ロール回転数（r/min） | 180 |
| 概略寸法 L × W × H（mm） |
1100 × 900 × 1300 |
- ろ過
- MSAS400 × 4室シートフィルタ
（複式タイプ）
【売約済】
主な用途
醸造関係（清酒、みりん、醤油等）
飲料・食品関係（果汁、寒天、食品油等）
その他（各種エキス、医薬品原体、化学薬品、化粧品等）
主仕様
| 年 式 | 2006年 |
|---|---|
| ろ過面積（㎡） | 0.7 |
| ろ過容積（ℓ） | 6.8 |
| ろ過室寸法（mm） | □300 × t20 |
| 概略寸法 L × W × H（mm） |
1300 × 600 × 1150 |
- ろ過
- MDFW470 × 4室 圧搾式手動フィルタープレス
（ケーキ洗浄機構付）
【売約済】
主な用途
電池材の原料製造工程、化学・鉱工業製造工程
医薬品・化粧品原料の製造工程
希少金属・貴金属の回収工程、半導体の製造工程
主仕様
| 年 式 | 2009年 |
|---|---|
| ろ過面積（㎡） | 1 |
| ろ過容積（ℓ） | 12 （圧搾前） |
| ろ過室寸法（mm） | □410 × t30 |
| 概略寸法 L × W × H（mm） |
1900 × 850 × 1570 |
- ろ過
- MDFW470 ×10室 圧搾式手動フィルタープレス
（複式タイプ、ケーキ洗浄機構付）
【売約済】
主な用途
電池材の原料製造工程、化学・鉱工業製造工程
医薬品・化粧品原料の製造工程
希少金属・貴金属の回収工程、半導体の製造工程
主仕様
| 年 式 | 2017年 |
|---|---|
| ろ過面積（㎡） | 3 |
| ろ過容積（ℓ） | 41 （圧搾前） |
| ろ過室寸法（mm） | □410 × t30 |
| 概略寸法 L × W × H（mm） |
2600 × 1050 × 1750 |
- ろ過
- MDF800-J × 10室 圧搾式自動フィルタープレス
【売約済】
主な用途
電池材の原料製造工程、化学・鉱工業製造工程
医薬品・化粧品原料の製造工程
希少金属・貴金属の回収工程、半導体の製造工程
主仕様
| 年 式 | 2013年 |
|---|---|
| ろ過面積（㎡） | 9 |
| ろ過容積（ℓ） | 125 （圧搾前） |
| ろ過室寸法（mm） | □740 × t30 |
| 概略寸法 L × W × H（mm） |
3400 × 2000 × 2900 |
- フィルタープレス
フィードポンプ - MDP70Fダイヤフラムポンプ
【売約済】
主な用途
メッキ工場排水、セラミックス製造工程
ダンボール工場排水、上下水汚泥処理、各種産業排水
主仕様
| 年 式 | 2008年 |
|---|---|
| 吐出量（ℓ/min） | 26（無負荷清水時） |
| 最高圧力（MPa） | 1.2 |
| 吸込・吐出口径(A) | 40・40 |
| 接液部主材質 | 鋳鉄鋼 |
| 概略寸法 L × W × H（mm） |
850 × 500 × 1500 |
- 分級
- 振動篩機
【売約済】
主な用途
整粒（粒度分布の調整、閉回路粉砕）
成分分離、異物除去、凝集・粗粒子の除去
凝集性粉体の分散
主仕様
| 年 式 | 2016年 | |
|---|---|---|
| ふるい面有効直径 （mm） |
φ870 | |
| ふるい面有効面積 （㎡） |
0.6 | |
| 段数 | 2 | |
| 金網 | 上段金網 | 18Mesh × φ0.4 |
| 下段金網 | 150Mesh × φ0.065 | |
| 下張金網 | 20Mesh × φ0.34 | |
| 原料接触部材質 | SUS304 | |
| 高さ（mm) | 1035 | |
| 所要床面積（mm) | 1480 × 1480 | |
- 分散
- 高速溶解機
主な用途
セラミックス、顔料、食品、塗料等
主仕様
| 年 式 | 2012年 |
|---|---|
| 内容積（ℓ） | 117 |
| 有効容積（ℓ） | 60 |
| 回転数（r/min） | 1200 |
| タンク寸法（mm） | φ500 × H600 |
| 概略寸法 L × W × H（mm） |
920 × 810 × 2100 |
